1515
TSMC: GENOMBROTT MÖJLIGGÖR UPPRÄTTHÅLLANDE AV "MOORES LAG"

STOCKHOLM (Nyhetsbyrån Direkt) Världens största halvledarproducent, taiwanesiska TSMC, har tillkännagett "ett stort genombrott" i forskning på teknik som ska möjliggöra tillverkning av processorer med processoravstånd på 1-nanometer och mindre. Nu kan Intel-grundaren Gordon E Moores lag om processorutveckling för halvledare upprätthållas, enligt forskarna.

Det rapporterar tidskriften Nature.

TSMC har i samband med Taiwans nationella universitet NTU och amerikanska Massachusetts Institute of Technology (MIT) nått fram till genombrottet i nyttjandet av "bortom kisel"- och tvådimensionella material för framtidens elektronik.

Nutida processorer för mobiltelefoner och datorer som nyttjar sig av dylika mikroprocessorer har som bäst processoravståndet 5 nanometer i de mikrochips som definierar elektronikens beräkningssnabbhet och 3- och 4-nanometersprocessorer är fortsatt inte kommersialiserade.

Branschens förhoppning är att 3-nanometerstekniken ska kunna levereras under andra halvåret 2022.

För att kontextualisera det avstånd som transistortätheten 1 nanometer utgör kan nämnas att ett hårstrås tjocklek uppmäter 80.000-100.000 nanometer. En kiselatom, det material som chippen tillverkas av, är omkring 0,5 nanometer bred.

Vad som menas med tvådimensionella material är att tunnheten i transistortätheten är på atomär nivå. Två avsevärda problem har förhindrat utvecklingen, nämligen att materialen primärt har ett inneboende kontaktmotstånd men även en svag kretskapacitet.

Enligt forskningsstudien som nu lagts fram leder genombrottet till att Moores lag, en teori om att transistortätheten ska halveras och därmed göra marknadens bästa processkraft dubbelt så snabb vartannat år, fortsatt kan göras gällande. 2016 gjordes ett centralt konstaterande från halvledarsektorns branschförening om att exponentialfunktionen i Moores lag troligtvis skulle behöva frångås inom fem år.

Forskningsprojektet har bedrivits under 18 månader. Genombrottet forskades fram av MIT och TSMC:s expertis på området och kunde därefter optimera processen innan NTU låg bakom den litografiska process som med en helium-jonisk stråle kunde smalna av komponentkanalen till 1 nanometer.

För blott två veckor sedan utkom amerikanska IBM med ett genombrott avseende 2-nanometersteknik, något som troligtvis kommer komma chippartnern Intel till gagn inom kommande år.



Source: Direkt-SE
Tillbaka

Det verkar som att du använder en annonsblockerare

Om du är prenumerant behöver du logga in för att fortsätta. Vill bli prenumerant kan du läsa Di Digitalt för 197 kr inkl. moms de första 3 månaderna.

  • Full tillgång till di.se med nyheter och analyser

  • Tillgång till över 1100 aktiekurser i realtid

  • Dagens industri som e-tidning redan kvällen innan

  • Innehållet i alla Di:s appar, tjänster och nyhetsbrev

3 månader för
197 kr
Spara 1000 kr

Prenumerera

Redan prenumerant?